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更新时间:2024-11-22 作者: 应力检测
从Wolfspeed视点看SiC MOSFET功率器材牢靠性以满意特定运用要求
– 假如 MOSFET 开始时没有一点 BPD,则堆垛层错不会成核和成长,也不可能会产生双极退化
– 走运的是,大多数或一切毛病都产生在 ~100 小时 BDOL 压力内
• TDDB 测验与温度和电压的联络,用于构建由 Joe McPherson(德州仪器牢靠性研究员)发布的猜测寿数模型:热化学模型 - 与Si MOSFET 运用的模型相同!
- 在相同的电场下,平面MOSFET上的碳化硅栅极氧化物牢靠性与Si MOSFET适当
• 关于 Wolfspeed MOSFET,物理毛病剖析标明,毛病是有源区的栅极氧化物击穿,在氧化物电场最高的 JFET 空隙中
• SiC 的 THB 加快因子没有确认,但它们可能与 Si 器材的加快因子类似,由于金属和电介质类似:
• SiC 功率器材与 Si 功率器材比较,还有一些共同的牢靠性考虑要素
• 成功的产品认证和现场牢靠性标明牢靠性科学正在取得成效,而且 SiC 已准备好用于高牢靠性运用的大批量制作——未来便是现在!
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